反滲透設備專用阻垢分散劑的高效作用
反滲透設備專用阻垢分散劑是一種高效阻垢分散劑，特別適用於金屬氧化物、硅以及致垢鹽類含量高的水質，其阻垢效果能高且不與殘留凝聚劑或富鋁富鐵的硅化合物發生凝聚開成不溶聚合物。在系統中使用此產品可以降低反滲透(RO)、納濾(NF)或超濾(UF)系統的設備投資和運行費用，在此情況下可以代替離子交換預處理系統。
產品特點：1、美國陶氏化學公司(Dow.Filmtec)、海德能公司(Hydranautics)、流體公司(FluidSystems)推薦阻垢劑
2、在很大的濃度範圍內有效的控制無機物結垢，不加酸的條件下LSI最大允許值為2.8
3、不與鐵鋁氧化物及硅化合物凝聚形成不溶物
4、對控制鐵、鋁及重金屬污染物特別有效，進水側鐵的濃度允許大8.0ppm
5、能有效地抑制硅的聚合與沉積，濃水側允許SiO2=290PPm
6、可用於反滲透CA及TEC膜、納濾膜和超濾膜
7、極佳的溶解性及穩定性
8、給水pH值在5-10範圍內均有效
反滲透設備正常運行后，其預處理工藝設計可以最大可能地去除原水中帶來的污染物質，但並不能全部去除，所以反滲透系統污染現象很普遍。反滲透膜元件會受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見的是碳酸鈣沉澱、硫酸鈣沉澱、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉澱、硅沉積物、無機或有機沉積混合物、NOM天然有機物質、合成有機物(如：阻垢劑/分散劑，陽離子聚合電解質)、微生物 (藻類、黴菌、真菌)等污染。污染.性質和污染速度取決於各種因素，有時候操作失誤會造成膜的污染，
如回收率太高或加藥系統不正常等。通常污染是漸進發展的，如不儘早控制，污染將會在相對較短的時間內損壞膜元件。當膜元件確認已被污染，或是在長期停機使用之前，或是作為定期日常維護，建議對膜元件進行清洗。反滲透膜污染會導致產水量下降，脫鹽率下降，進口與濃水之間的壓差升高。反滲透膜清洗使用酸鹼藥劑(ph2-12條件下)，膜清洗藥液溫度最高45℃。許多污染，特別是粘泥類，隨時間積累量增加並被壓縮且增厚，這樣清洗難度會增加，清洗時間會大大延長。
如果癥狀符合下列特點，立即清洗膜元件：
標準化后的產水量減少10-15%
脫鹽率下降0.5%
反滲透清洗設備
1.清洗藥箱：化學清洗藥箱通常是PE或FRP材質，可以耐受PH範圍1-12。
2.清洗加熱裝置：清洗溫度盡量高些，比如20-40℃。化學清洗不要再10℃以下進行，因為清洗效率很低。因為清洗時還須加熱裝置。
3.清洗藥劑：清洗選用強烈的酸鹼類，(如鹽酸，磷酸，檸檬酸，氫氧化鈉等)所以選擇化學藥品很重要，有的時候因為藥劑選擇不當會造成膜的污染甚至損傷。
4.清洗泵：清洗為耐酸鹼性泵，流量12-15m3/h，壓力20-30米。
5.清洗時須安裝相應的管道、閥門、壓力表。把泵的出水口接到膜的進口，把濃水管接到藥箱內，再接到原水箱內前先安裝一球閥，把藥箱和泵連接上。
